大家好，今天小編關注到一個比較有意思的話題，就是關于鍋爐給水調(diào)理劑的問題，于是小編就整理了5個相關介紹鍋爐給水調(diào)理劑的解答，讓我們一起看看吧。

鍋爐用的軟化水的藥劑是什么？

鍋爐給水應加磷酸三鈉，由于鍋爐水處在沸騰條件下，要求PH值在9～10.5，磷酸三鈉可以調(diào)節(jié)PH值。鍋爐運行中要求，水中磷酸根-有一定過剩量，過剩量太小，防垢效果差，過剩量過大，會造成藥品消耗上升、爐水含鹽量增加、形成磷酸鎂垢及發(fā)生磷酸鹽“隱藏”現(xiàn)象等，中壓鍋爐一般控制在5～15mg/L。

一噸鍋爐水加多少阻垢劑??？

堿性除垢劑的用量應根據(jù)水垢厚度加藥。一般水垢1-2毫米厚，加藥13-15公斤/噸水：水垢3-4毫米厚，加藥15-17公斤/噸水；水垢5毫米以是時，加藥17-19公斤/噸水；如果鍋爐中水垢較厚，可加藥到20-25公斤/噸水。

爐水氯離子值高的原因及處理方法？

爐水氯離子值高可能由以下原因引起：

一是原水氯離子含量高；

二是原水或爐水中有機物，在高溫高壓條件下生成氯化氫，腐蝕鍋爐金屬產(chǎn)生氯離子；

三是使用含氯藥物或化學藥劑除垢造成的。處理方法：

一是對原水進行軟化處理，降低水中的氯離子含量；

二是采用有機物抑制劑，抑制有機物生成氯化氫；

三是采用緩蝕阻垢劑，防止鍋爐金屬腐蝕；

四是采用離子交換法或反滲透法去除水中的氯離子。

鍋爐給水中硅有什么害處，怎樣從水中脫除？

硅是一種四價的非金屬元素,以化合物的形式，作為僅次于氧的最豐富的元素存在于地殼中，主要以熔點很高的氧化物和硅酸鹽的形式存在。水中硅以兩種形態(tài)存在，活性硅(單體硅)和膠體硅(多元硅)： 在高壓鍋爐給水中，必須解決用水含硅的問題。因為硅有非常強的隨蒸汽揮發(fā)的能力，隨后，蒸汽中所含的硅會在透平的低壓段，因蒸汽壓力的降低，以玻璃態(tài)沉積在透平的葉片上，影響透平的效率?；钚院湍z體兩種形式的硅均會引起這種故障，因為在高壓鍋爐的溫度條件下，膠體硅將分解成硅酸鹽，然后再蒸發(fā)到蒸汽當中。 膠體硅沒有離子的特征，但個體相對較大，膠體硅能被精細的物理過濾過程所截留，如反滲透，也可以通過凝聚技術(shù)降低在水中的含量，如混凝澄清池，但是那些需要依靠離子電荷特征的分離技術(shù)，如離子交換樹脂和連續(xù)電去離子過程(EDI)。硅酸化合物各種形態(tài)可以相互轉(zhuǎn)化，提高水溫或增大水的PH值，會使膠體硅向溶解態(tài)硅的轉(zhuǎn)變。 活性硅的尺寸比膠體硅小得多，這樣大多數(shù)的物理過濾技術(shù)如混凝澄清、過濾和氣浮等均無法脫除活性硅，能夠有效脫除活性硅的過程是反滲透、離子交換和連續(xù)電去離子過程。

  因為硅有非常強的隨蒸汽揮發(fā)的能力，隨后，蒸汽中所含的硅會在透平的低壓段，因蒸汽壓力的降低，以玻璃態(tài)沉積在透平的葉片上，影響透平的效率

水中不可避免的含有氧化硅等硅的化合物，這些含硅化合物很難通過簡單的過濾去除，但是如果不加處理又會導致亞臨界和超臨界壓力鍋爐的運行問題，所以在實際工作中即使水體看似十分清澈，也必須要采取有效措施對水中的硅化合物進行處理。經(jīng)過長時間的探索和研究發(fā)現(xiàn)，鎂劑除硅和石灰除硅這兩種方式具有極佳的除硅效果，在這種情況下對這兩種除硅技術(shù)進行研究顯然具有一定的現(xiàn)實意義。

蒸汽鍋爐加什么化學藥品？

加磷酸三鈉藥品。

用藥及藥量：磷酸三鈉Na3PO4.12H2O 2.5kg/T (鍋筒zd水)，也可用Na2CO3代替，用量是磷酸三鈉的1.5倍。

蒸氣鍋爐擴展資料

蒸汽鍋爐指的是生產(chǎn)蒸汽的鍋爐設備，其屬于特種設備，其設計、生產(chǎn)、出廠、安裝都必須接受國家技術(shù)監(jiān)督部門的監(jiān)查，用戶需要取得鍋爐使用證才能運行鍋爐。和常壓鍋爐不同，蒸汽鍋爐出廠時必須帶有鍋爐手續(xù)，鍋爐手續(xù)包括鍋爐本體圖、安裝圖、儀表閥門圖、管道圖及檢驗合格證等。。

到此，以上就是小編對于鍋爐給水調(diào)理劑的問題就介紹到這了，希望介紹關于鍋爐給水調(diào)理劑的5點解答對大家有用。